頭孢塞污鈉研磨分散機，頭孢塞污鈉高速研磨分散機，頭孢塞污鈉超高速研磨分散機，頭孢塞污鈉三級研磨分散機，頭孢塞污鈉高剪切研磨分散機，頭孢塞污鈉管線式研磨分散機，頭孢塞污鈉在線式研磨分散機，頭孢塞污鈉納米級研磨分散機

{別名}

頭孢氨噻肟、氨噻肟頭孢菌素、頭孢泰克松、西孢克拉瑞、 頭孢噻肟、塞福??；凱福隆；凱帝隆； 氨噻肟頭孢 菌素鈉;泰可欣;先鋒噻肟 、先鋒龍
【外文名】Cefotaxime Sodium , Claforan, CTX,Ceforan, HR-756, Zariviz 
【作用與用途】 
本品第三代半合成頭孢菌素，抗菌譜比頭孢呋肟廣，對革蘭陰性菌的作用更強，但對陽性球菌不如第代與第二代頭孢菌素對綠膿桿菌與厭氧菌僅有低度抗菌作用.抗菌譜包括嗜血性流感桿菌、腸桿菌、沙門桿菌克雷白產(chǎn)氣桿菌屬及奇異變形桿菌、奈瑟菌屬、葡萄球菌、肺炎球菌、鏈球菌等。臨床上主要用于各敏感菌的感染，如呼吸道、五官、腹腔、膽道、腦膜炎、淋病、泌尿系統(tǒng)感染、皮膚軟組織感染、創(chuàng)傷及術后感染、敗血癥等。

【用法用量】
1.肌注或靜注，成人，中等度感染，1g/次，1次/12小時；嚴重感染8g～12g/日，分3～4次；兒童每日100mg～150mg/kg，分2～4次；新生兒每日50mg/kg，分2～4次。本品亦可供靜滴，宜用1g～2g溶于生理鹽水或葡萄糖注射液中稀釋，在20～60分鐘內(nèi)滴注完畢。 
2.肌內(nèi)注射:成人一次0.5～1g，每日3～4次。靜脈滴注:(藥典規(guī)定靜脈滴注一日2～3g)臨床常用每次1～2g，每日3～4次，必要時每4小時一次。 
小兒:每日50～100mg/kg(體重)，分3～4次給藥。 
頭孢塞污鈉研磨分散機NKD2000系列研磨分散設備是shsina（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
NKD2000系列的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

• 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

技術參數(shù)